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原标题：上海光刻机如今发展得怎么样了？2007年量产90nm，现在还是90nm
近几年来，我国的科技水平不断快速提高，在很多领域已经突破了许多西方国家的技术封锁。但是，在芯片制造领域，我国的短板在于光刻机，与国外先进技术有一定的差距，缺乏制造高端芯片的核心技术，从而长期依赖国外进口，每年进口的芯片都达到几万亿元。
光刻机作为制造芯片过程当中一个非常关键的环节，直接决定了芯片的制程和质量。那么，我国目前制造光刻机的技术究竟到达什么水平？与最先进的光刻机相差多少？
中国最早的光刻机与现在的光刻机水平似乎进步不大
公开资料显示，上海微电子成立于2002年，2007年就研发成功了国内首台90nm工艺光刻机。同时，近十几年来，我国一直在致力于研究光刻机，但是取得的成果不容乐观。如今，13年后，国产光刻机企业还是停留在90nm工艺光刻机，跟ASML、尼康等具备28nm以上工艺光刻机的企业相比，差距还是比较大的，尤其是跟asml7nmEUV的差距更大。
我国的90nm与最先进的28nm相比，发展得很慢
表面上看，90nm跟28nm或者是7nm从数字上来看差距不是很大，但实际上这里面是千差万别的，光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加，可能从90nm升级到65nm并不难，但是从65nm升级到45nm，就是一个技术节点了，45nm的光刻机技术明显要比90nm和65nm难很多，至于28nm、14nm和7nm，甚至未来有可能出现的3nm，那难度就更大了，也正因为如此，我国的光刻机的研发进度一直都比较缓慢。
但没有放弃，一直在力挽狂澜
据最新消息，上海微电子继续创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年交付国产第一台28nm光刻机，虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机在不断攻克技术难点，减少与荷兰ASML公司差距。
总之，虽然我们的技术跟别人相比还有很大的差距，但要坚信：只要我们不放弃，奋起直追，就会有成功突破的可能，那超越西方之路还会遥远吗？游戏网
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